ANALISIS PENGARUH VARIASI RAPAT ARUS PULSA TERHADAP PEMBENTUKAN LAPISAN KOMPOSIT Ni-AlN/Si3N4 MENGGUNAKAN METODE ELEKTRODEPOSISI

ANNISA ANNISA, . (2024) ANALISIS PENGARUH VARIASI RAPAT ARUS PULSA TERHADAP PEMBENTUKAN LAPISAN KOMPOSIT Ni-AlN/Si3N4 MENGGUNAKAN METODE ELEKTRODEPOSISI. Sarjana thesis, UNIVERSITAS NEGERI JAKARTA.

	Text COVER.pdf Download (1MB)
	Text BAB 1.pdf Download (1MB)
	Text BAB 2.pdf Restricted to Repository staff only Download (331kB) | Request a copy
	Text BAB 3.pdf Restricted to Repository staff only Download (2MB) | Request a copy
	Text BAB 4.pdf Restricted to Repository staff only Download (383kB) | Request a copy
	Text BAB 5.pdf Restricted to Repository staff only Download (533kB) | Request a copy
	Text DAFTAR PUSTAKA.pdf Download (3MB)
	Text LAMPIRAN.pdf Restricted to Repository staff only Download (1MB) | Request a copy

Abstract

Dalam penelitian ini dilakukan pembentukan lapisan komposit Ni-AlN/Si3N4 menggunakan metode elektrodeposisi dengan rapat arus pulsa sebesar 0,35 mA/mm^2 dan 0,45 mA/mm^2 selama 30 menit dengan laju pengadukan 60 rpm pada suhu 40 derajat celcius. Substrat yang akan digunakan dalam pembentukan lapisan komposit Ni-AlN/Si3N4 adalah tungsten karbida (WC). Tungsten karbida yang telah dilapisi kemudian diuji menggunakan Scanning Electron Microscopy-Energy Dispersive Spectroscopy (SEM-EDS) untuk menganalisis morfologi dan komposisinya. Hasil karakterisasi morfologi semakin meningkatnya rapat arus pulsa, semakin halus morfologi permukaan lapisan komposit Ni-AlN/Si3N4. Selain itu, peningkatan rapat arus pulsa juga menyebabkan penurunan ukuran kristal dan peningkatan kekerasan lapisan. Hasil dari pemindaian Energy Dispersive X-Ray Spectroscopy (EDS) menunjukkan keberhasilan terbentuknya lapisan komposit Ni-AlN/Si3N4 dengan adanya kandungan unsur logam Ni, Al, dan Si.***** In this study, the Ni-AlN/Si3N4 composite layer was formed using the electrodeposition method with a pulse current density of 0.35 mA/mm^2 and 0.45 mA/mm^2for 30 minutes with a stirring rate of 60 rpm at 40oC. The substrate to be used in the formation of the Ni-AlN/ Si3N4 composite layer is tungsten carbide (WC). The coated tungsten carbide was then tested using Scanning Electron Microscopy-Energy Dispersive Spectroscopy (SEM-EDS) to analyze its morphology and composition. Morphological characterization results increase the pulse current density, the smoother the surface morphology of the Ni-AlN/Si3N4 composite layer. In addition, increasing the pulse current density also causes a decrease in crystal size and an increase in coating hardness. The results of the Energy Dispersive X-Ray Spectroscopy (EDS) scan showed the successful formation of the Ni-AlN/Si3N4 composite layer with the presence of Ni, Al, and Si metal elements.

Item Type:	Thesis (Sarjana)
Additional Information:	1). Dr. Esmar Budi, M.T 2). Dr. Teguh Budi Prayitno, M.Si
Subjects:	Sains > Sains, Ilmu Pengetahuan Alam Sains > Fisika
Divisions:	FMIPA > S1 Fisika
Depositing User:	Annisa .
Date Deposited:	13 Aug 2024 00:39
Last Modified:	13 Aug 2024 00:39
URI:	http://repository.unj.ac.id/id/eprint/49596

Actions (login required)

View Item