Pengaruh Arus dan Kutub Magnet Pada Pelapisan Tembaga Di Atas Substrat Aluminium Dengan Bantuan Alat Magnet Putar

MUHAMMAD FIRMANSYAH, . (2024) Pengaruh Arus dan Kutub Magnet Pada Pelapisan Tembaga Di Atas Substrat Aluminium Dengan Bantuan Alat Magnet Putar. Diploma thesis, UNIVERSITAS NEGERI JAKARTA.

	Text COVER.pdf Download (1MB)
	Text BAB I.pdf Download (2MB)
	Text BAB II.pdf Restricted to Registered users only Download (2MB) | Request a copy
	Text BAB III.pdf Restricted to Registered users only Download (2MB) | Request a copy
	Text BAB IV.pdf Restricted to Registered users only Download (2MB) | Request a copy
	Text BAB V.pdf Restricted to Registered users only Download (1MB) | Request a copy
	Text DAFTAR PUSTAKA.pdf Download (2MB)
	Text LAMPIRAN.pdf Restricted to Registered users only Download (3MB) | Request a copy

Abstract

Pelapisan logam adalah proses endapan dengan cara elektrokimia. Dalam proses pelapisan, benda kerja yang akan dilapisi dijadikan katoda lalu logam yang akan melapisi benda kerja dijadikan anoda. Pelapisan ini bertujuan untuk meningkatkan ketahanan logam terhadap korosi, melapisi permukaan logam agar lebih tahan terhadap goresan dan untuk mendapatkan nilai dekoratif. Penelitian ini bertujuan untuk menyelidiki efek kerapatan arus pada pelapisan tembaga (Cu) di atas substrat aluminium (AI) terhadap laju deposisi dan ketebalan. Pelapisan ini dibantu dengan alat magnet putar dan variasi arus yang digunakan adalah 40, 60, dan 80 mA Katoda yang digunakan adalah panduan Al dengan panjang dan lebar 2 × 2 cm, anoda nya adalah Cu, kemudian larutan elektrolit yang digunakan adalah 0,5 M CuSO₄. Metode pelapisan ini dengan variasi arus 40, 60, dan 80 mA. Dengan waktu pelapisan selama 1 jam. Setelah itu akan di lakukan perhitungan laju deposisi dan ketebalan untuk mengetahui pengaruhnya setelah melakukan variasi arus dan kutub magnet. Untuk magnet yang dipakai yaitu berjumlah 18 buah pada 6 lubang alas magnet. Hasil penelitian menunjukkan bahwa peningkatan arus berbanding lurus dengan peningkatan ketebalan lapisan Cu yang terdeposisi. Pada arus 40 mA dengan kutub magnet selatan, ketebalan meningkat menjadi 15,06 µm, dan kutub magnet utara menjadi 14,50 µm. Sedangkan pada arus 60 dan 80 mA ada kutub selatan, ketebalan meningkat menjadi 21,48 dan 27,62 µm. Kemudian ketebalan pada arus 60 dan 80 mA pada kutub utara, ketebalan meningkat menjadi 20,64 dan 23,71 µm. Selain itu, laju deposisi juga mengalami peningkatan signifikan dengan bertambahnya arus. Laju deposisi pada arus 40, 60, dan 80 mA tercatat dari masing-masing kutub selatan tercatat 15.06, 21,48, dan 27,62 µm /jam. Sedangkan masing-masing dari kutub utara tercatat 14.50, 20,64, dan 23,71 µm/jam. Kata kunci : Anoda, Katoda, Larutan Elektrolit, Pelapisan Logam Metal plating is a deposition process by electrochemical means. In the coating process, the workpiece will be coated with a cathode and then the metal that will coat the workpiece is used as an anode. This coating aims to increase the metal's resistance to corrosion, coating the metal surface to make it more resistant to scratches and to obtain decorative value. This study aims to investigate the effect of current density on a copper (Cu) layer on an AI aluminum substrate on deposition rate and thickness. This coating is assisted by a rotating magnetic device and the current variations used are 40, 60, and 80 mA The cathode used is an Al guide with a length and width of 2×2 cm, the anode is Cu, then the electrolyte solution used is 0.5 M CuSO₄. This coating method varies with currents of 40, 60, and 80 mA. With a coating time of 1 hour. After that, the deposition rate and thickness will be calculated to determine the effect after varying the current and magnetic poles. The magnets used are 18 in 6 holes in the magnetic base. The research results show that the increase in current is directly proportional to the increase in the thickness of the deposited Cu layer. At a current of 40 mA with a south magnetic pole, the thickness increases to 15.06 µm, and a north magnetic pole to 14.50 µm. Meanwhile, at currents of 60 and 80 mA at the south pole, the thickness increases to 21.48 µm and 27.62 µm. Then the thickness at currents of 60 and 80 mA at the north pole, the thickness increases to 20.64 µm and 23.71 µm. In addition, the deposition rate also increases significantly as the current increases. The deposition rate at currents of 40, 60, and 80 mA recorded from each south pole was recorded at 15.06 µm / hour, 21.48 µm / hour, and 27.62 µm / hour. Meanwhile, each north pole recorded 14.50 µm/hour, 20.64 µm/hour and 23.71 µm/hour. Keywords: Anode, Cathode, Electrolyte Solution, Metal Plating

Item Type:	Thesis (Diploma)
Additional Information:	1. Dr. Ferry Budhi Susetyo, M.T., M.Si. 2. Drs. Syamsuir, M.T.
Subjects:	Teknologi dan Ilmu Terapan > Manufaktur
Divisions:	FT > D IV Teknologi Rekayasa Manufaktur
Depositing User:	Users 23638 not found.
Date Deposited:	29 Jul 2024 01:19
Last Modified:	29 Jul 2024 01:19
URI:	http://repository.unj.ac.id/id/eprint/47000

Actions (login required)

View Item